研究者紹介
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著書論文等全件
氏名
小川 修一
OGAWA Shuichi
所属
多元物質科学研究所
計測研究部門
表面物理プロセス研究分野
大学院担当
大学院工学研究科・工学部
ファインメカニクス専攻

職名
助教
学位
博士(工学)
研究分野
  • 薄膜・表面界面物性
  • 電子・電気材料工学
  • 反応工学・プロセスシステム
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研究課題
  • 電子デバイス応用へ向けたナノカーボン材料作製プロセスの研究 (2010-)
  • 熱酸化プロセスによる極薄Si酸化膜形成機構の研究 (2001-)
  • 光電子制御プラズマCVDによる配線用多層グラフェン合成 (2008-)
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研究キーワード
薄膜・表面科学,表面分析,ナノ炭素材料
所属学会
  • 応用物理学会
  • 日本表面科学会
  • 日本真空学会
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学会活動・学会役員
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    主要著書

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    主要論文

    Enhancement of SiO2/Si(001) interfacial oxidation induced by thermal strain during rapid thermal oxidation.[The Journal of Chemical Physics,145(11),(2016),114701-1-7]S. Ogawa, J. Tang, A. Yoshigoe, S. Ishidzuka, Y. Takakuwa
    10.1063/1.4962671


    Experimental estimation of oxidation-induced Si atoms emission on Si(001) surfaces.[AIP Advances,5(8),(2015),087146/1-7]Shuichi Ogawa, Jiayi Tang, Yuji Takakuwa
    10.1063/1.4929332


    Relation Between Oxidation Rate and Oxidation-Induced Strain at SiO2/Si(001) Interfaces during Thermal Oxidation.[Japanese Journal of Applied Physics,52(11),(2013),110128-]Shuichi Ogawa, Jiayi Tang, Akitaka Yoshigoe, Shinji Ishidzuka, Yuden Teraoka, Yuji Takakuwa
    10.7567/JJAP.52.110128


    Rate-Limiting Reactions of the Growth and Decomposition Kinetics of Very Thin Oxide on Si(001) Surfaces Studied by Reflection High Energy Electron Diffraction Combined with Auger Electron Spectroscopy.[Japanese Journal of Applied Physics,45(9A),(2006),7063-7079]S. Ogawa, Y. Takakuwa
    10.1143/JJAP.45.7063


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    主要総説・解説記事

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    学術関係受賞
    • 第29回応用物理学会論文賞(JJAP論文奨励賞)(2007)
    • 第25回井上研究奨励賞(2009)
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    ホームページ
    http://www.tagen.tohoku.ac.jp/labo/takakuwa/index.html
    メールアドレス
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    データ更新日
    2019.08.31
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