研究者紹介
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著書論文等全件
氏名
島津 武仁
SHIMATSU Takehito
所属
学際科学フロンティア研究所
先端学際基幹研究部
情報・システム研究領域
職名
教授
学位
博士(工学)
研究分野
  • 電子・電気材料工学
  • 電子デバイス・電子機器
  • 薄膜・表面界面物性
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研究課題
  • 原子拡散接合法による室温接合技術の開発とデバイス形成への応用 (2008-)
  • 高密度磁気記録媒体の開発 (1989-)
  • スパッタリングプロセスによる金属薄膜の微細構造の制御に関する研究 (1990-)
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研究キーワード
室温接合技術, 原子拡散接合法, 磁気記録媒体, スパッタリングプロセス, 磁性薄膜, 超高真空
所属学会
  • エレクトロニクス実装学会
  • 日本磁気学会
  • 日本金属学会
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主要著書

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主要論文

Room Temperature Bonding Using Thin Metal Films.[ECS Transactions,64(5),(2014),317-328]T. Shimatsu, M. Uomoto, and H. Kon
10.1149/06405.0317


Atomic diffusion bonding of wafers with thin nanocrystalline metal films.[Journal of Vacuum Science and Technology B,28(4),(2010),706-714]T. Shimatsu and M. Uomoto
10.1116/1.3437515


High Potential Magnetic Anisotropy of CoPtCr-SiO2 Perpendicular Recording Media.[IEEE Transactions on Magnetics,41(9),(2005),566-571]T. Shimatsu, H. Sato, T. Oikawa, Y. Inaba, O. Kitakami, S. Okamoto, H. Aoi, H. Muraoka, and Y. Nakamura
10.1109/TMAG.2004.838071


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主要総説・解説記事

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学術関係受賞
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    学外の社会活動
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      データ更新日
      2018.08.11
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