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著書論文等全件
氏名
嶋 紘平
SHIMA Kohei
所属
多元物質科学研究所
計測研究部門
量子光エレクトロニクス研究分野
職名
助教
生年月
1988.10
学位
博士(工学)
研究分野
  • 応用物性・結晶工学
  • 反応工学・プロセスシステム
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研究キーワード
半導体量子光物性, ドライプロセス, デバイスプロセス設計
所属学会
  • 応用物理学会
  • 化学工学会
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主要論文

High-aspect-ratio parallel-plate microchannels applicable to kinetic analysis of chemical vapor deposition.[Advanced Materials Interfaces,3,(2016),1600254-1--1600254-11]Kohei Shima, Yuichi Funato, Hidetoshi Sugiura, Noboru Sato, Yasuyuki Fukushima, Takeshi Momose, and Yukihiro Shimogaki
10.1002/admi.201600254


Comparative Study on Cu-CVD Nucleation Using β-diketonato and Amidinato Precursors for Sub-10-nm-Thick Continuous Film Growth.[ECS Journal of Solid State Science and Technology,4,(2015),P305-P313]Kohei Shima, Hideharu Shimizu, Takeshi Momose, and Yukihiro Shimogaki
10.1149/2.0061508jss


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主要総説・解説記事

CVD/ALDを用いたCu(Mn)/Co(W)配線システムの構築と3次元アトムプローブによるサブナノ構造・バリヤ性評価.[電子情報通信学会技術研究報告,114, (2015), 39-44]嶋紘平, 涂远, 韓斌, 高見澤悠, 清水秀治, 清水康雄, 百瀬健, 井上耕治, 永井康介, 霜垣幸浩


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学術関係受賞
  • The Bruce Deal & Andy Grove Young Author Award 2015(2015)
  • 化学工学会反応工学部会CVD反応分科会 平成27年度 奨励賞(2015)
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ホームページ
http://www.tagen.tohoku.ac.jp/labo/chichibu/index-j.html
データ更新日
2019.08.06
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