研究者紹介
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研究紹介

著書論文等全件
氏名
寒川 誠二
SAMUKAWA Seiji
所属
流体科学研究所
附属未到エネルギー研究センター
グリーンナノテクノロジー研究分野
大学院担当
大学院工学研究科・工学部
ファインメカニクス専攻

職名
教授
慶應義塾大学訪問教授、大阪大学工学研究科非常勤講師、財団法人機器研究会評議員、NEDO技術委員
生年月
1959.04
研究分野
  • 薄膜・表面界面物性
  • 応用物理学一般
  • プラズマ科学
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研究課題
  • バイオテクノロジーとナノテクノロジーの融合による革新的デバイス開発 (2004-)
  • 究極のトップダウン加工プロセス(中性粒子ビーム) (2000-)
  • ダメージフリープラズマエッチングプロセス (2000-)
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研究キーワード
プラズマ,ビーム,原子分子操作,バイオ,表面科学, ナノデバイス
所属学会
  • 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会
  • 電気学会ドライプロセスシンポジウム
  • American Vacuum Society
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学会活動・学会役員
  • 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会・副幹事長(1999-2001)(1999-2001)
  • 電気学会ドライプロセスシンポジウム・論文委員、運営委員(1994-)
  • 米国真空学会・Program committee, Executive committee(1997-2007)
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主要著書

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主要論文

Effects of Discharge Frequency in Plasma Etching and Ultrahigh-Frequency Plasma Source for High-Performance Etching for Ultralarge-Scale Integrated Circuits.[Japanese Journal of Applied Physics,39,(2000),1583-1596]Seiji Samukawa, Vincent M. Donnelly and Mikahail V. Malyshev


Pulse-time-modulated ECR plasma discharge for highly selective, highly ansiotropic and charge-free etching.[Journal of Vacuum Science and Technology A,14,(1996),3049-3058]Seiji Samukawa, Hiroto Ohtake and Tetsu Mieno,


High-Performance Silicon Dioxide Etching for less than 0.1μm High-Aspect-Contact-Holes.[Journal of Vacuum Science and Technology B,18,(2000),166-171]Seiji Samukawa and Tomonori Mukai


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主要総説・解説記事

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学術関係受賞
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    報道
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      学外の社会活動
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        外部機関における活動
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          行政機関・企業・NPO等参加
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            オープンキャンパス・研究所公開等
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              データ更新日
              2019.03.20
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