研究者紹介
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著書論文等全件
氏名
後藤 孝
GOTO Takashi
所属
未来科学技術共同研究センター
大学院担当
大学院工学研究科・工学部
材料システム工学専攻

職名
教授
学位
工学博士
研究分野
  • 無機化学(高温セラミックス材料)
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研究課題
  • レーザー、プラズマ、熱CVDによる機能性セラミックス膜の合成 (2000-)
  • プラズマ焼結法による高温セラミックスの創製 (2000-)
  • セラミックス材料の超高温酸化 (1976)
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研究キーワード
セラミックス, CVD, 複合材料
所属学会
  • 日本セラミックス協会
  • American Ceramics Society
  • 粉体粉末冶金協会
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学会活動・学会役員
  • International Ceramic Federation・President(2018-)
  • (社)粉体粉末冶金協会・副会長(2018-)
  • Journal of Asian Ceramic Societies・General Editor(2013-)
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主要著書

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主要論文

Effects of sintering and annealing temperature on fabrication of transparent Lu2Ti2O7 by spark plasma sintering.[Journal of the American Ceramic Society,94(11),(2011),3851-3855]L.Q. An, A. Ito, T. Goto
10.1111/j.1551-2916.2011.04562.x


Frequency-dependent electrical properties of ferroelectric BaTi2O5 single crystal.[Journal of Applied Physics,109(2),(2011),024107-]N. Maso, X.Y. Yue, T. Goto, A. R. West
10.1063/1.3536535


Apatite formation in Hanks' solutionon β-Ca2SiO4 films prepared by MOCVD.[Surface & Coatings Technology,206(1),(2011),172-177]Shekhar Nath, RongTu, Takashi Goto
10.1016/j.surfcoat.2011.07.014


Low-temperature deposition of α-Al2O3 films by laser chemical vapor deposition using a diode laser.[Applied Surface Science,256(12),(2010),3906-3911]Yu You, Akihiko Ito, Rong Tu, Takashi Goto
10.1016/j.apsusc.2010.01.048


Thermoelectric properties of Si-Ti-B in situ composito plates prepared by chemical vapor deposition.[Mater. Manu. Process,7(4),(1992),625-647]M. Mukaida, T. Goto, T. Hirai


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主要総説・解説記事

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学術関係受賞
  • APAM Academician(2013)
  • Fellow Of The Society (American Ceramic Society)(2011)
  • World Academy of Ceramics 13th Election (2009)(2009)
  • 編鐘奨(中国)(2006)
  • Richard M.Fulrath Pacific Award(1997)
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報道
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    学外の社会活動
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      外部機関における活動
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        行政機関・企業・NPO等参加
        • 日本学術振興会(国) 産学協力研究委員会 先進セラミックス第124委員会 委員長(2010-2015)
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        ホームページ
        http://www.goto.imr.tohoku.ac.jp/index.html
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        データ更新日
        2019.11.28
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