研究者紹介
写真



著書論文等全件
氏名
福山 博之
FUKUYAMA Hiroyuki
所属
多元物質科学研究所
附属金属資源プロセス研究センター
高温材料物理化学研究分野
職名
教授
生年月
1965.09
研究分野
    全件表示
    研究キーワード
    単結晶AlN,ALON,青色-紫外発光デバイス,熱物性,宇宙,マイクログラビティ,コンテナレス・プロセシング, 非平衡,過冷却,電磁浮遊,強磁場
    所属学会
      全件表示
      主要著書

      全件表示
      主要論文

      Normal Spectral Emissivity of Undercooled Liquid Silicon.[Meas. Sci. Technol,16,(2005),386-393]H.Kawamura,H.Fukuyama,M.Watanabe,T.Hibiya


      Determination of Gibbs Energy of Formation of Cuspidine (3CaOSiO2aF2) by Transpiration Method.[ISIJ International,44(9),(2004),1488-1493]H.Fukuyama,H.Tabata,T.Oshima,K.Nagata


      Thermodynamic Stability of g-Aluminum Oxynitride.[J. Electrochem. Soc.,150(2),(2003),J1-J7]W.Nakao,H.Fukuyama,K.Nagata


      Single Crystalline AlN Film Formed by Direct Nitridation of Sapphire Using Aluminum Oxynitride Buffer.[J. Crystal Growth,259,(2003),302-308]W.Nakao,H.Fukuyama


      全件表示
      主要総説・解説記事

      全件表示
      学術関係受賞
      • 澤村論文賞(2003)
      • 第22回村上奨励賞(2001)
      • 第18回本多記念研究奨励賞(1997)
      全件表示
      ホームページ
      http://www2.tagen.tohoku.ac.jp/lab/fukuyama/
      メールアドレス
      メールアドレス
      データ更新日
      2020.09.02
      Englishこのページのトップへ
      copyright(c)2005 Tohoku University