研究者紹介
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研究紹介

著書論文等全件
氏名
吹留 博一
FUKIDOME Hirokazu
所属
電気通信研究所
情報デバイス研究部門
固体電子工学研究室
大学院担当
大学院工学研究科・工学部
電子工学専攻

職名
准教授
研究課題
  • グラフェン結晶成長及び電子・光デバイスへの応用 (2008)
  • 光電子顕微鏡を用いた固体表面反応の微視的観察及び制御 (2002-2007)
  • 固液界面反応を用いたシリコン表面の原子レベル平坦化 (1996-2000)
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研究キーワード
「表面・界面, グラフェン, 有機結晶, シリコン, 顕微分光、電気化学」
学会活動・学会役員
  • 応用物理学会プログラム編集委員会・編集委員(2009-)
  • 応用物理学会ナノカーボン分科会・世話人(2009-)
  • 電気化学会東北支部・事務幹事(2007-2008)
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主要著書

グラフェンを用いた半導体素子の開発と将来展望 (Electronic Jrounal Archive No. 438).[電子ジャーナル,(2012)]末光眞希


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主要論文

Epitaxial Graphene on Si Substrates.[Journal of Physics D,43,(2010),374012-]「M. Suemitsu」, 「H. Fukidome」
10.1088/0022-3727/43/37/374012


Soft X-ray spectromicroscopic study on graphene toward device applications.[SPring-8 Research Frontiers 2013,2013(1),(2014)]Hirokazu Fukidome, Kotsugi Masato, Hiroki Hibino


Operando Analysis of Field-Effect of Graphene Transistors.[EMN Phuket Meeting,(2015)]Hirokazu Fukidome


Quantification of Surface Electron Trapping of GaN Transistors by Using Operando Soft X-ray Photoelectron Nanospectroscopy.[ISSS-8 2017,(2017)]H. Fukidome, K. Omika, Y. Tateno, T. Kouchi, T. Komatani, N. Nagamura, S. Konno, Y. Takahashi, M. Kotsugi, K. Horiba, M. Suemitsu, M. Oshima


Precise control of epitaxy of graphene by microfabricating SiC substrate.[Applied Physics Letters,101,(2012),041605-1-041605-4]Hirokazu Fukidome, Yusuke Kawai, Felix Fromm, Masato Kotsugi, Hiroyuki Handa, Takayuki Ide, Takuo Ohkouchi, Hidetoshi Miyashita, Yoshiharu Enta, Toyohiko Kinoshita, Thomas Seyller, and Maki Suemitsu


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主要総説・解説記事

基板微細加工の援用による超高品質グラフェンの作製.[技術情報協会 月刊マテリアルステージ,13(3), (2013), 23-26]吹留 博一


グラフェンの超高速電子状態を直接観測.[光アライアンス,26, (2015), 31-35]吹留博一


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学術関係受賞
  • 日本表面科学会論文賞(2011)
  • eJSSNT Paper of The Year 2009(2010)
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報道
  • ナノテク素材 平たんに成膜(出演・執筆 新聞 日本経済新聞)(2012)
  • グラフェンで電子素子(出演・執筆 新聞 日経産業新聞)(2011)
  • グラフェン必要箇所だけ成長 東北大などシリコン融合素子に道(出演・執筆 新聞 日刊工業新聞)(2013)
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学外の社会活動
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    オープンキャンパス・研究所公開等
    • 電気通信研究所公開実験(公開授業・講演)(2009)
    • 電気通信研究所一般公開(公開授業・講演)(2009)
    • 電気通信研究所一般公開(公開授業・講演)(2010)
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    データ更新日
    2019.03.30
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